CVD 공법
Chemical Vapor Deposition
가스 원료를 사용해 화학적 반응을 이용한 코팅 방법으로,
표면 마찰력을 감소시키고 윤활성을 향상시키는 제품에 활용 가능합니다.
※ 대면적의 평탄면 제품, 완만한 굴곡 제품에 적합.

Cvd process
표면 마찰력이 낮은 매끄러운 표면을 위한 DLC 코팅
대면적의 평탄면 제품이나 완만한 굴곡의 제품에 적용 가능한 코팅법으로
코팅 박막의 밀도가 높고, 표면이 매끄럽게 형성되어 마찰로 인한 제품의 손상을 줄여 줍니다.
또, 빠른 코팅막 형성으로 대량생산이 가능하며 다양한 색상의 제품도 제작 가능합니다.

적용사례
메카닉칼 씰
피스톤 링
실리콘 웨이퍼
컬러 코팅
골프채 헤드
의료용 스텐트
전기소자(반도체)
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RF CVD DLC 코팅장치
- Vacuum Chamber, gas Line, MFC
- high Vacuum 10⁻⁶ torr 사용
- 최적 유량제어시스템 : Programmable MFC 장착
- 전용 Gas Line 적용 : C₂H₂, CH₄, Ar, N₂, O₂
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최적화된 RF/DC Hybrid-CVD DLC Coating
- 전처리 방법에 따른 코팅층 분석
- 가스유량 및 합성시간 변화에 따른 DLC 코팅층 두께 측정
- DLC 코팅의 부착력 극대화